日前，由中導(dǎo)光電設(shè)備股份有限公司（簡(jiǎn)稱“中導(dǎo)光電”）研發(fā)制造的“納米級(jí)有圖形晶圓缺陷檢測(cè)設(shè)備”NanoPro-150運(yùn)交客戶工廠。該客戶由國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體芯片制造業(yè)巨匠加盟指導(dǎo)，是國(guó)內(nèi)IGBT制造領(lǐng)域的知名企業(yè)。
據(jù)悉，中導(dǎo)光電的NanoPro-1XX產(chǎn)品系列最高靈敏度達(dá)100nm，適用于半導(dǎo)體芯片0.13μm-0.18μm及以上制造工藝需求。
該產(chǎn)品系列除與國(guó)際頂尖公司同類產(chǎn)品在靈敏度、檢出速度（Throughput）等主要性能參數(shù)相似外，還具有多項(xiàng)技術(shù)創(chuàng)新和特點(diǎn)：
一是，集“亮場(chǎng)/Bright Field”和“暗場(chǎng)/Dark Field”于一體，既保證了對(duì)光刻、刻蝕等關(guān)鍵制程的檢測(cè)要求，也提供了對(duì)鍍膜、CMP等制程以及裸片的經(jīng)濟(jì)高效檢測(cè)方案，極大地拓展了設(shè)備的應(yīng)用場(chǎng)景，降低了設(shè)備的使用成本（COO）；
二是，采用“多通道成像（MCI）技術(shù)”，提高了設(shè)備對(duì)不同“被檢測(cè)材料/物體”的檢測(cè)靈敏度，并解決了“膜色變化/Color Variation”對(duì)檢測(cè)的干擾；
三是，使用“動(dòng)態(tài)影像解析度擴(kuò)展（HDR）”技術(shù)，更好地解決了“金屬-非金屬”混合表面“明暗反差”問(wèn)題；
四是，根據(jù)客戶需求，該設(shè)備可兼容兩種不同的晶圓尺寸，如8英寸與12英寸、6英寸與8英寸、5英寸與6英寸等，拓展了設(shè)備使用范圍；
五是，集成了大量先進(jìn)的圖像識(shí)別與人工智能軟件技術(shù)，且能夠與國(guó)際半導(dǎo)體制造業(yè)通用軟件系統(tǒng)和信息交換系統(tǒng)相匹配。
與“無(wú)圖形晶圓缺陷檢測(cè)設(shè)備”相比較，“有圖形晶圓缺陷檢測(cè)設(shè)備”技術(shù)難度大幅提升，運(yùn)用范圍更廣，產(chǎn)品的經(jīng)濟(jì)價(jià)值和市場(chǎng)空間也是“無(wú)圖形晶圓缺陷檢測(cè)設(shè)備”的數(shù)倍。據(jù)了解，此次交付的NanoPro-150機(jī)型是國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體前道制程有圖形檢測(cè)設(shè)備國(guó)產(chǎn)化的一次突破。
中導(dǎo)光電是一家半導(dǎo)體工業(yè)前道制程高端缺陷檢測(cè)設(shè)備研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化的專業(yè)公司。中導(dǎo)光電于成立以來(lái)的16年內(nèi)，在平板顯示（FPD）等工業(yè)領(lǐng)域，銷售各種亞微米（≥0.5μm）“有圖形”檢測(cè)設(shè)備近300臺(tái)。公司曾承擔(dān)國(guó)家“863計(jì)劃”科研項(xiàng)目、工信部科研項(xiàng)目、省市科研項(xiàng)目數(shù)十項(xiàng)，積累了豐富的半導(dǎo)體高端檢測(cè)設(shè)備研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化經(jīng)驗(yàn)，是半導(dǎo)體工業(yè)前道制程高端缺陷檢測(cè)領(lǐng)域的關(guān)鍵國(guó)產(chǎn)替代供應(yīng)商。
中導(dǎo)光電的NanoPro-2XX系列產(chǎn)品，最高靈敏度達(dá)70nm左右，適用于60nm-90nm半導(dǎo)體工藝；其NanoPro-3XX系列產(chǎn)品，最高靈敏度達(dá)40nm左右，適用于45nm-60nm半導(dǎo)體工藝。NanoPro-2XX系列產(chǎn)品將于明年接受客戶訂單，NanoPro-3XX也將隨后完成研發(fā)，接受客戶評(píng)估。中導(dǎo)光電目前進(jìn)入銷售和量產(chǎn)的NanoPro-1XX系列產(chǎn)品和MDI亞微米檢測(cè)設(shè)備，加上NanoPro-2XX和NanoPro-3XX將先后進(jìn)入市場(chǎng)，可覆蓋國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體前道檢測(cè)設(shè)備需求市場(chǎng)的90%以上，給中國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)檢測(cè)設(shè)備的國(guó)產(chǎn)化帶來(lái)曙光。
